SAL-3000系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng) |
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| 分類 | AGUS ALD-原子層沉積系統(tǒng) |
| 型號 | SAL-3000 |
| 品牌 | AGUS |
| 產(chǎn)地 | 日本，進口 |
SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)
SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備，該設備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外，還可進一步通過改變鍍膜方向，來進一步提高鍍膜的質(zhì)量。并且該設備還可搭載互鎖腔體（Load lock Chamber）和手套箱來沉積需要氣氛保護的樣品。
SAL-3000 SAL3000+Load Lock Chamber
性能及特點：
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1.鍍膜質(zhì)量高 |
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·膜厚均勻性≤3% @ 100mm |
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·對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性； |
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·膜厚可準確控制達一個原子層； |
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·大面積制程可達到無孔洞薄膜（Pin Hole free） |
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·極高的重復性及穩(wěn)定性 |
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·材料缺陷密度低 |
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·可成長非晶型或結晶薄膜（選擇溫度） |
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| 2.兩種成膜方向可選 | |
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·可選擇將薄膜沉積在基底上表面（SAL-3000D）和基底下表面（SAL-3000U），薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風險。 |
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3. 可搭載互鎖腔體（Load lock chamber）和手套箱 |
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4.圖形用戶界面，觸控操作，簡單易用，可存儲30多種鍍膜方案； |
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5.主機與控制機箱一體化設計； |
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6. 可搭配多種配件： |
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| 干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅(qū)體加熱器等，退火設備等； |
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