SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng) |
|
|---|---|
| 分類 | AGUS ALD-原子層沉積系統(tǒng) |
| 型號 | SAL-3000Plus |
| 品牌 | AGUS |
| 產(chǎn)地 | 日本，進口 |
SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng)
SAL3000Plus是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統(tǒng)，可通過連接STR2000轉(zhuǎn)移單元，與退火設(shè)備SAN2000Plus，鍍膜設(shè)備，SVE2000Plus蒸鍍設(shè)備，SSP2000Plus/SSP3000Plus磁控濺射設(shè)備搭配；
SAL-3000Plus SAL3000-Plus+STR2000+SAN2000Plus
性能及特點：
|
1.鍍膜質(zhì)量高 |
 |
|
· 膜厚均勻性≤3% @ 100mm |
|
|
· 對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性； |
|
|
· 膜厚可準(zhǔn)確控制達一個原子層； |
|
|
· 大面積制程可達到無孔洞薄膜（Pin Hole free） |
|
|
· 極高的重復(fù)性及穩(wěn)定性 |
|
|
· 材料缺陷密度低 |
|
|
· 可成長非晶型或結(jié)晶薄膜（選擇溫度） |
|
|
2.兩種成膜方向可選 |
 |
|
· 可選擇將薄膜沉積在基底上表面和基底下表面，薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風(fēng)險。 |
|
|
3. 可通過STR2000與其它Plus系列設(shè)備串聯(lián) |
|
|
4.最多可搭載6路前驅(qū)體 |
|
|
5.優(yōu)異的真空性能：真空度≤5Pa |
|
|
6.圖形用戶界面，觸控操作，簡單易用，可存儲30多種鍍膜方案 |
|
|
7.與SAL3000相比，寬度減少了40％ |
|
|
6. 可搭配多種配件： |
|
| 干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅(qū)體加熱器等，退火設(shè)備等； |
上海市楊浦區(qū)長陽路1687號長陽創(chuàng)谷2號樓2層204-2室 021-58362581 ；58362582 vicky.yuan@k-analys.com 18964508748 ；18964505659
